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低溫制冷循環(huán)水溫機(jī)

低溫制冷循環(huán)水溫機(jī)

更新時(shí)間:2024-10-22

訪問(wèn)次數(shù):2621

廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

產(chǎn)品特點(diǎn):低溫制冷循環(huán)水溫機(jī)廣泛用于各種實(shí)驗(yàn)研究用儀器及工業(yè)生產(chǎn)用設(shè)備發(fā)熱部的冷卻恒溫作用分析儀器:原子吸收、質(zhì)譜儀、旋光儀。

詳細(xì)資料



低溫制冷循環(huán)水溫機(jī)廣泛用于各種實(shí)驗(yàn)研究用儀器及工業(yè)生產(chǎn)用設(shè)備發(fā)熱部的冷卻恒溫作用分析儀器:原子吸收、質(zhì)譜儀、旋光儀。醫(yī)療設(shè)備:降溫毯。工業(yè)設(shè)備及激光設(shè)備: 生物制藥??茖W(xué)實(shí)驗(yàn)設(shè)備:分子泵旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、蒸餾器、發(fā)酵裝置、激光器、金屬快速成型裝置、真空鍍膜機(jī)。

半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部的冷卻:?jiǎn)尉磧艮D(zhuǎn)載、印刷機(jī)、自動(dòng)夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機(jī)、包裝機(jī)、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。對(duì)激光裝置發(fā)熱部分的冷卻:激光加工、熔接機(jī)的發(fā)熱部分、激光標(biāo)志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機(jī)等。
低溫制冷循環(huán)水溫機(jī)技術(shù)參數(shù):


型號(hào)

溫度范圍

L/min bar

循環(huán)泵

電源

(kw) at (℃) 制冷量

加注冷媒

-20

-35

-55

DW-418

—40~30

20

0.7

220/380V

50/60HZ

1.2

0.4


R404A

R407C


DW-440

—40~30

20

0.7

2.7

0.75


DW-462

—40~30

35

1

3.8

1.1


DW-490

—40~30

35

1

5.5

1.5


DW-4A1

—40~30

35

1

7

2.1


DW-4A2

—40~30

80

1.5

14

4


DW-618

—60~—20

20

0.7


0.6

0.4

R404A

R23

R13

DW-630

—60~—20

20

0.7


1.1

0.6

DW-662

—60~—20

35

1


2

1.15

DW-6A1

—60~—20

35

1


3.5

2

DW-6A2

—60~—20

75

1.5



13

5., 8



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